Eucerin Sun After Sun Sensitive Relief Gel-Creme, 200 ml

• DERMOKOSMETIK
• Spendet Feuchtigkeit und beruhigt sonnengestresste Haut
• Auch bei zu Sonnenallergien neigender Haut geeignet

Eucerin Sun After Sun Gel – Ultraleichte Apres Sun Pflege für sonnengestresste Haut

• Ultraleicht und zieht sofort ein
• Spendet Feuchtigkeit und kühlt
• Beruhigt und regeneriert sonnengestresste Haut
• Anti-Rötungs Effekt
• Auch bei zu Sonnenallergien neigender Haut geeignet

Die Eucerin After Sun Sensitive Relief Gel-Creme ist eine ultraleichte Hautpflege nach dem Sonnenbad für den ganzen Körper und das Gesicht. Die Apres Sun Lotion mit CELLULAR REPAIR TECHNOLOGY kühlt die Haut sofort und beruhigt langanhaltend. Mit der kühlenden Bodylotion wird die Haut dabei mit Feuchtigkeit versorgt und Spannungsgefühle werden gemildert.

Die After Sun Pflege enthält Licochalcone A, um Rötungen sowie Reizungen zu lindern und unterstützt den Erholungsprozess der Haut. Glycyrrhetinsäure aus den Wurzeln der chinesischen Süßholzpflanze unterstützt die hauteigene DNA-Reparatur.

Die Apres Sun Hautpflege hat einen angenehm leichten Duft und lässt sich leicht auftragen. Für eine einfache Anwendung in der ganzen Familie ist die Lotion in wenigen Sekunden eingezogen, klebt nicht und fettet nicht.

Empfohlen für alle Hauttypen sowie bei zu Sonnenallergie neigender Haut, z.B. Polymorpher Lichtdermatose. Auch für sehr empfindliche Kinderhaut geeignet.

• Licochalcone A – Antioxidant Licochalcone A neutralisiert freie Radikale
• Glycyrrhetinsäure – unterstützt die hauteigene DNA-Reparatur

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Anwendung

Nach dem Aufenthalt in der Sonne großzügig auf die gereinigte, trockene Haut auftragen. Augenkontakt vermeiden.

Inhaltsstoffe

Aqua, Alcohol Denat., Glycerin, Panthenol, Hydrogenated Coco-Glycerides, Isopropyl Palmitate, Glyceryl Stearate SE, Butyrospermum Parkii Butter, Cetyl Alcohol l Glycyrrhiza Inflata Root Extract, Glycyrrhetinic Acid, Tocopherol, Pantolactone, Tapioca Starch, Sodium Hydroxide, Dimethicone, Phenoxyethanol, Sodium Cetearyl Sulfate, Citric Acid, Carbomer, Parfum